1樓：
一、 實驗目的
真空鍍膜技術廣泛地應用在現代工業和科學技術中，光學儀器的反射鏡，增透鏡，鐳射器諧振腔的高反射膜，計算機上儲存和記憶用的磁性薄膜，以及材料表面的超硬薄膜。此外在電子學、半導體等其它各尖端學科也都採用了真空技術。
本實驗的目的是學習真空蒸發鍍膜技術。通過本門實驗，要求學生掌握如下幾點：①較系統瞭解真空鍍膜儀器的結構；②瞭解真空系統各元件的功能；③瞭解石英晶體振盪器測厚原理；④掌握真空蒸鍍的基本原理；⑤瞭解真空鍍膜儀器的基本操作。
二、預習要求
要求學生在實驗之前對真空系統有一定了解，可以通過以下幾本相關書籍獲得相關資訊。《薄膜材料製備原理、技術及應用》—— 唐偉忠著，冶金工藝出版社出版社；《薄膜物理與技術》—— 楊邦朝，王文生編著，電子科學出版社；《薄膜技術》—— 王力衡，清華大學出版社；《薄膜技術》—— 顧培夫，浙江大學出版社；《真空技術物理基礎》—— 張樹林，東北工學院出版社；《真空技術》—— 戴榮道，電子工業出版社。
三、實驗所需儀器裝置
實驗過程需要的主要裝置為dmde 450型光學多層鍍膜機。
真空鍍膜機：本實驗使用dmde-450光學多層鍍膜機，其裝置結構如圖3所示。它主要由真空系統、蒸發裝置及膜厚監控系統組成。
真空系統由各種真空器件組成，主要包括：真空室；真空泵（機械泵、和分子泵）；真空導管；各種真空閥門和測量真空度的真空計等。高真空閥門為碟式，機械泵與分子泵的連通閥門為三同式，將閥門拉出時，機械泵可以直接對鍍膜室抽氣，推入時機械泵與分子泵連通，同時也切斷了機械泵與鍍膜室的連線。
蒸發系統由真空鐘罩，蒸發電極（共有二對），活動擋板，蒸發源，底盤等組成。蒸發源安裝在電極上。為了改善薄膜厚度的不均勻性，一般鍍膜機的低壓電極往往安裝在底盤的一側，並使要鍍的基片隨工作架旋轉。
加熱電流由調壓器輸出調整，蒸發電壓與電流的大小可由面板上電流表和電壓表讀出。
2樓：浮振翱
簡述真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面，它是以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，並吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術，為科學研究和實際生產提供薄膜製備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射，使其在被塗覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固並沉積的方法，稱為真空鍍膜。
眾所周知，在某些材料的表面上，只要鍍上一層薄膜，就能使材料具有許多新的、良好的物理和化學效能。20世紀70年代，在物體表面上鍍膜的方法主要有電鍍法和化學鍍法。前者是通過通電，使電解液電解，被電解的離子鍍到作為另一個電極的基體表面上，因此這種鍍膜的條件，基體必須是電的良導體，而且薄膜厚度也難以控制。
後者是採用化學還原法，必須把膜材配製成溶液，並能迅速參加還原反應，這種鍍膜方法不僅薄膜的結合強度差，而且鍍膜既不均勻也不易控制，同時還會產生大量的廢液，造成嚴重的汙染。因此，這兩種被人們稱之為溼式鍍膜法的鍍膜工藝受到了很大的限制。
真空鍍膜則是相對於上述的溼式鍍膜方法而發展起來的一種新型鍍膜技術，通常稱為乾式鍍膜技術。
真空鍍膜問題，真空鍍膜鍍不上的原因
膜 鬼 1，冷卻水的冷卻效果降低了，可能是冷卻水堵塞或部分堵塞2，dp泵的溫控器壞了，例如實際100度的時候，它判斷為200度，所以報警了 以上可能性比較大 dp泵工作原理為，油在蒸發時粘稠的油蒸汽噴射帶走空氣，油冷卻迴流，而空氣被排走了。真空鍍膜鍍不上的原因 林凡天 那個濺射靶材一切完好，電源都是...
光學真空鍍膜材料有哪些，真空鍍膜和光學鍍膜有什麼區別
一.光學鍍膜材料 純度 99.9 99.9999 1.氧化物 技術指標 一氧化矽，二氧化鉿，二氧化鋯，二氧化鈦，一氧化鈦，二氧化矽，三氧化二鈦 五氧化三鈦，五氧化二鉭，五氧化二鈮，三氧化二鋁，三氧化二鈧，三氧化二銦 二氧化矽，二鈦酸鐠，二氧化鈰，氧化鎂，三氧化鎢，氧化釤，氧化釹，氧化鉍 氧化鐠，氧化...
真空度對真空鍍膜的影響，真空度對真空鍍膜的影響？
月似當時 真空度高，則真空鍍膜質量較好。各種鍍膜技術都需要有一個蒸發源或靶子，以便把蒸發制膜的材料轉化成氣體。由於源或靶的不斷改進，大大擴大了制膜材料的選用範圍，無論是金屬 金屬合金 金屬間化合物 陶瓷或有機物質，都可以蒸鍍各種金屬膜和介質膜，而且還可以同時蒸鍍不同材料而得到多層膜。以真空技術為基礎...