1樓：愛笑de街角風鈴
接觸式**：掩膜板直接與光刻膠層接觸。**出來的圖形與掩膜板上的圖形解像度相當，裝置簡單。
接觸式，根據施加碼指力量的方式不同又分為：軟接觸，硬接觸和真空接觸：
1.軟接觸 就是把基片通過托盤吸附住（類似於勻膠機的基片放置方式），掩膜蓋在基片上面；
2.硬接觸 是將基片通過乙個氣壓（氮氣），往上頂，使之與掩膜接觸；
3.真空接觸 是在掩膜和基片中間抽氣，使之更加好悔姿的貼合。
接觸的越緊密（軟《硬《真空），解像度越高，當然接觸的越緊密，掩膜和材料的遲前配損傷就越大。
2樓：慶曉星
1.膠印（lithography），又名柯式印刷，是廣泛使用的印刷技術，是先把上墨的影象轉移到橡皮布上，然後再轉移到印刷材料表面的一種印刷方法。膠印是平版印刷的一種，也是基於水墨相斥的原理的，膠印技術可以避免印刷表面的水與油墨一起傳遞到印刷材料的表面上。
膠印的優點如下：
影象質量高——比凸版印刷更加清晰、明銳，因為橡皮布能夠與印刷材料表面的紋理很好地接觸。
除了平滑的紙張外，還可以使用範圍廣泛的印刷材料，例如木頭、織物、金屬、皮革、較粗糙的紙張等。
印版的製作快速、簡便。
印版耐印率比直接平版印刷更高——因為印版和印刷表面之間沒有直接接觸。
lithography是一種平板印刷技術，在平面光波迴路的製作中一直髮揮著重要的作用。具體過程如下：
首先在二氧化矽為主要成分的芯層材料上面，澱積一層光刻膠；
使用掩模版對光刻膠**固化，並在光刻膠層上形成固化的與掩模板完全對應如哪的幾何圖形；
對光刻膠上圖形顯影，與掩模對應的光刻膠圖形可以使芯層材料抵抗刻蝕過程；
使用等離子互動技術，將二氧化矽刻蝕成與光刻膠圖形對應的芯層形狀；
光刻膠層剝離；
最後在已經形成的芯層圖孝咐形上面澱積上包層。
使用lithography方法幾乎可以在芯層材料上形成各種幾何圖形，圖形的精細度取決於**系統的光源波長，現有uv、duv、e-beam、x-ray、nano-imprint幾種**方式。
2 .軟接觸（soft contact）
soft contact輕觸（光化學、幹膜、**及顯影）& hard contact
光阻膜於**時，須將底片緊密壓巧橡純貼在幹膜或已硬化之溼膜表面，稱為 hard contact。若改採平行光**裝置時則可不必緊壓，稱為 soft contact。此「輕觸」 有別於高度平行光自動連線之非接觸(off contact)式駕空**。
4.真空接觸曬像（vacuum contact）
一種在印製板曬製圖形時將**框抽真空，使底片與印製板在大氣壓下均勻地接觸，從而獲得清晰圖形的製圖方法。
世界上能做出高階光刻機的國家有哪些
3樓：刀學樂正
荷蘭2.尼康--日本。
3.佳能--日本。
中國拓展資料：光刻機又名：掩模對準**機，**系統，光刻系統等。
常用的光刻機是掩膜對準光刻，所以叫 mask alignment system.一般的光刻工藝要經歷矽片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對準**、後烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。
光刻意思是用光來製作乙個圖形（工藝）；在矽片表面勻膠，然後將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程將器件或電路結構臨時「複製」到矽片上的過程。
4樓：網友
樓上順口胡謅，光刻機是荷蘭阿斯麥一家獨大，佔全球七八成份額，美國日本中國也能生產。
5樓：網友
除了荷蘭，全球還有哪些國家可以製造光刻機？
abaqus硬接觸和軟接觸的區別是什麼
6樓：網友
abaqus硬接觸，即接觸面之間能夠傳遞的接觸壓力大小不受限制，當接觸面的壓力變為負值或者零就表示兩個接觸面發生分離。
為什麼光刻膠必須用作氧化物光刻的掩膜
7樓：網友
因為只有氧化物才能被光迅速氧化而形成光刻嘛。
ply在光刻中是什麼意思
8樓：wq風與天空
不是。ply，或者叫poly，全拼polyester，是滌綸面料簡稱，常見於各種面料成分說明上。 滌綸是合成纖維中的乙個重要品種，是我國聚酯纖維的商品名稱。
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